TENCAN kindalaeka puhastussüsteemiga

Kehtib puhta keskkonna loomisel vee, hapniku ja tolmu eemaldamise teel.
Akutööstuse teadus- ja arendustegevus ning tootmine (liitiumioonakud, pulverakud, päikesepatareid, liitiumioonfosfaatakud).
Spetsiaallampide (HD-lamp, metallhalogeniidlamp, keraamiline metallhalogeniidlamp) teadus- ja arendustegevus ning tootmine.
Keevitamine (takistuskeevitus, TIG-keevitus, laserkeevitus, plasmakeevitus, messingjootmine)
OLED-i teadus- ja arendustegevus ning tootmine
Teadus- ja arendustegevus ning ravimite tootmine
Superkondensaatorite teadus- ja arendustegevus ning tootmine
Peenkeemiatööstus
Tuumatööstus
Teadus- ja arendustegevus ning uute energiamaterjalide tootmine

Kast ja puhastussüsteem on omavahel ühendatud ning moodustavad hästi suletud töökeskkonna. Kui kasti täidetakse pidevalt inertgaasi või lämmastikuga, tuleb kastis olevad toimeained karbist välja tõmmata ringjate liigutustega, et hoida sisemist kasti pidevalt kõrge puhtusastmega ja kõrge inertgaasisisaldusega keskkonnas (veesisaldus ≤1 ppm, hapnikusisaldus ≤1 ppm).

Puhastussüsteemiga kindalaek on laboriseade, millesse saab panna kõrge puhtusastmega inertse gaasi ja toimeained saab karbist ringikujuliselt välja filtreerida. Seda nimetatakse ka "vaakumkindalaekaks vee ja hapniku eemaldamisega" ja "inertgaasi puhastuskindalaekaks". Sellise kindalaeka peamised funktsioonid: vee eemaldamine, hapniku eemaldamine ja muude orgaaniliste gaaside eemaldamine. Seda kasutatakse laialdaselt kõrge puhtusastmega keskkonna loomiseks ilma vee-, hapniku- ja tolmusisalduseta.

Märkused:
Kapi vee- ja hapnikusisaldus standardtingimustes:  
Veesisaldus ≤1 ppm, hapnikusisaldus ≤1 ppm (Märkus: standardtingimus on atmosfäärirõhk, konstantne temperatuur 20 kraadi).
Lekkekiirus: ≤0.05Vol%/h (võib muutuda hapnikusisalduse väärtus karbis)
Kasutatud gaas:
a) Töögaas: N2, Ar, He jne.
b) Juhtgaas: suruõhk või inertgaas.
C) Taastav gaas: töögaasi ja vesiniku segugaas.
Gaasi taastamine on sama mis töögaasil, kui on olemas ainult vee eemaldamise süsteem või hapniku eemaldamise süsteem.
Märkused: Kõik ühepoolsed 4 kindaga karbid on kokkupandud kindakarbid. Kokkupandud karpide arvu saab tellida vastavalt kliendi vajadustele. Puhastuskolonnide arv on samuti kavandatud vastavalt kliendi vajadustele.

Märkused:
Kapi vee- ja hapnikusisaldus standardtingimustes:  
Veesisaldus ≤1 ppm, hapnikusisaldus ≤1 ppm (Märkus: standardtingimus on atmosfäärirõhk, konstantne temperatuur 20 kraadi).
Lekkekiirus: ≤0.05Vol%/h (võib muutuda hapnikusisalduse väärtus karbis)
Kasutatud gaas:
a) Töögaas: N2, Ar, He jne.
b) Juhtgaas: suruõhk või inertgaas.
C) Taastav gaas: töögaasi ja vesiniku segugaas.
Gaasi taastamine on sama mis töögaasil, kui on olemas ainult vee eemaldamise süsteem või hapniku eemaldamise süsteem.
Märkused: Kõik ühepoolsed 4 kindaga karbid on kokkupandud kindakarbid. Kokkupandud karpide arvu saab tellida vastavalt kliendi vajadustele. Puhastuskolonnide arv on samuti kavandatud vastavalt kliendi vajadustele.